為了清潔 CVD 和 ALD/ALE 工藝室，Paragon 遠(yuǎn)程等離子源專為 NF 3的高氣體離解率 (> 95%) 而設(shè)計(jì)，氣體流量高達(dá) 8 slm，壓力高達(dá) 10 Torr。這種領(lǐng)先的性能轉(zhuǎn)化為更高的工藝吞吐量和可重復(fù)的工藝結(jié)果。Paragon 設(shè)計(jì)結(jié)合了專有等離子塊設(shè)計(jì)和等離子電解氧化涂層，可實(shí)現(xiàn)低顆粒、長塊壽命，從而降低擁有成本。
?
- 高達(dá) 8 slm NF 流量，緊湊的尺寸可實(shí)現(xiàn)更快的清潔時(shí)間
- 一流的解離 (>95%)，實(shí)現(xiàn)高效均勻的清潔效果
- EtherCAT 智能數(shù)據(jù)報(bào)告可實(shí)現(xiàn)更快、更嚴(yán)密的設(shè)備操作
- 兼容O?2和NF?3混合氣體
- 專有的 PEO 等離子塊設(shè)計(jì)提供更高的工藝性能
模擬或 EtherCAT 控制
?
Paragon 遠(yuǎn)程等離子源具有模擬和 EtherCAT? 通信端口。EtherCAT 可用于 Paragon 的直接控制，或與模擬端口結(jié)合使用，僅作為數(shù)據(jù)監(jiān)控端口。Paragon 將智能數(shù)據(jù)集流式傳輸?shù)焦ぞ呋蚓A廠數(shù)據(jù)庫，以監(jiān)控或修改操作參數(shù)，以保持工藝工具以最高效率運(yùn)行并支持診斷（APC、FDC）應(yīng)用程序。